上海微电子国产光刻机项目入选“上海设计100+”，获国内多项大奖
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上海微电子国产光刻机项目入选“上海设计100+”，获国内多项大奖泷泽秀明铃木亚美
5月19日消息，上海微电子装备官方今日宣布，旗下的高亮度LED步进投影光刻机入选“上海设计100+”项目，据悉这次上海微电子装备从1200多个申报项目中突围，最终成功入选。
公开资料显示，上海微电子装备公司（SMEE）成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
本次入选的高亮度LED步进投影光刻机由上海微电子装备自主研发，是目前我国首台面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品。
高亮度LED步进投影光刻机的成功研发，可以满足HB-LED等领域单面或双面的光刻工艺需求，解决了LED产业大翘曲蓝宝石高分辨率、高拼接精度、大焦深、高产率的光刻需求，且支持蓝宝石键合片特殊工艺。
自高亮度LED步进投影光刻机成功研发以来，先后荣获“第十五届中国国际工业博览会铜奖”、“上海市专利新产品”、“第十三届（2018年度）中国半导体创新产品和技术奖”、工信部第四批“制造业单项冠军产品”等多项大奖。
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